研究員紹介

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特許一覧

  • 特許第3853690号                                            
    「フォトレジスト剥離除去方法」
     
  • 特許第4092256号 
    「金属密着面表面処理方法」
     
  • 特許第4236632号 
    「蒸着マスクのクリーニング方法、蒸着マスククリーニング装置、有機EL素子の製造方法、および、有機EL素子の製造装置」
     
  • 特許第4542317号                                             
    「光学媒質の光入出射部処理方法」
     
  • 特開2010-177341                                
    「積層体の割断方法」
     
  • 特開2010-177340                                            
    「ダイシング方法及びエキスパンド装置」
     
  • 特開2009-081235                                
    「n型酸化物半導体の特性制御方法」
     
  • 特開2009-031237                              
    「レーザープラズマ放射電磁波を利用した非破壊検査方法および装置」
     
  • 特開2009-050904                                                    
    「周期構造体の加工制御装置と周期構造体の加工制御装置」
     
  • 特開2009-023215                                             
    「積層体の割断方法」
     
  • 特開2008-200700 
    「シリンダブロックとシリンダブロックの周期構造体加工方法とシリンダブロックの周期構造体加工装置」
     
  • 特開2008-200699 
    「外周体の周期構造体加工方法と外周体の周期構造体加工装置」
     
  • 特開2008-200698                                      
    「円筒内周面の周期構造体加工方法と円筒内周面の周期構造体加工装置」
     
  • 特開2007-237210                                     
    「レーザ加工法および装置」
     
  • 特開2006-186230 
    「光増幅モジュール、光増幅器およびレーザ発振器」
     
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